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      芯片 光刻 芯片 光刻 芯片 光刻

      手机、汽车、电脑显卡、游戏主机等收到近期产能不足的影响已有多个行业
      出现了芯片“断供”现象，不禁让世人惊叹
      小小芯片背后所隐藏的巨大力量

      芯片的制造工业极其复杂，其中光刻工艺约占芯片制造成本的35%
      耗时占40%-60%，是芯片制造过程中最为核心的一环

      本期就聊一聊光刻工艺
      路漫漫其修远兮 吾将上下而求索
      光刻工艺必须说到光刻机。光刻机主要由工作台、激光系统以及物镜系统三部分组成工作原理是利用光线刻画电路的过程。他把掩模版上的芯片电路一个个的复制到光刻胶薄膜上，然后通过刻蚀技术把电路“画”在晶圆上
      （如下图所示）
      光刻机

      工作原理虽然不复杂但对精度的要求非常高
      世界最先进的EUV光刻机精度已达到惊人的5nm
      而目前国内光刻机达不到先进水准仍需要依靠引进国外产品

      但使龙城飞将在 不教胡马度阴山
      即便拥有超高精度的光刻机，如果没有光刻工艺中图形转移的载体光刻胶，依然无法制造出完美的芯片。光刻胶是由感光树脂、增光剂和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺中，光刻胶被均匀涂布在衬底上，经过曝光、显影与刻蚀等工艺将掩模版上的图形转移到衬底上形成与掩模版完全对应的几何图形
      光刻胶研发调试
      光刻胶研发调试
      从类别上分主要分为印制电路光刻胶（PCB）、液晶显示器光刻胶（LCD）、半导体光刻胶（芯片）
      半导体光刻胶领域国内仍处于空白领域，是真正的命脉
      从类别上分主要分为印制电路光刻胶（PCB）、液晶显示器光刻胶（LCD）、半导体光刻胶（芯片）
      一个芯片在制造过程中需要进行 10-50道光刻过程，不同的光刻工艺对于光刻胶的要求也不经相同
      随着芯片设计技术的突破、先进光刻机的引进、国产胶技术也将突破技术难关，打破垄断
      试剂调试、光刻作业离不开无尘环境
      试剂调试、光刻作业离不开无尘环境

      不同的光刻过程需要配合对应的光刻胶，适合的工具可以帮助科研人员事半功倍

      莫愁前路无知己 天下谁人不识君
      芯片事业离不开一批批倾尽全力奉献着的科研人员，同样离不开一群群隐藏在背后默默无闻的力量
      成为明“芯”之路必将坎坷，或许需要几代人不断传承延续，但那份勇气和坚持必将成为披荆斩棘
      之剑
      每一名芯片行业背后隐藏的力量都值得尊敬和爱护

      每一名芯片行业背后隐藏的力量都值得尊敬和爱护

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